포토레지스트노광기

20560559

포토레지스트노광기, 마이다스시스템, MDA-400M, 최대노광크기5×5mm

기계시스템디자인공학과

하이테크관 242호 기계신뢰성평가연구실

2012-09-07

Photo resist(PR) exposure units

Photo resist(PR) exposure units, 포토레지스트노광기

- UV Exposure Light source with 350Watt Intensity Controlling Power Supply- Uniform Beam Size : 108.0 x108.0mm- Beam Uniformity : <±3%~5%- 365nm Output Beam Intensity : 20-25mW/cm2- 400nm Output Beam Intensity : 40-45mW/㎠

포토레지스트노광기, 마이다스시스템, MDA-400M, 최대노광크기 5×5mm

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